玛雅吧

0.18μm/0.16μm/0.153μm 1.8V/3.3V G
0.18μm/0.16μm/0.153μm 1.8V/5V G

 

 Overview

        公司0.18um工艺是基于客户对于Fab兼容主张而开发可宽泛利用的工艺。0.18um逻辑工艺可提供1.8V电压core device、3.3V或者5V 电压IO device， 并同时提供Native VT、Medium low VT器件、高机能电容、高精度poly电阻、可变电容器、电感等可选工艺可方便客户电路设计。

Shrunk工艺能够有效的降低客户成本，同时Shrunk工艺的器件个性同不Shrunk工艺极度靠近。公司 0.162um工艺是0.18um 90% Shrunk工艺, 公司 0.153um工艺是0.18um 85% Shrunk工艺。
公司0.18um工艺提供OTP/MTP工艺，OTP/MTP 工艺同现有单多晶逻辑工艺平台兼容，不必要额表增长光刻档次。

 

 Key Features

		0.18G
Core Voltage	Typical	1.8V
Core Device	Typical VT	√
	Low VT	√
IO Device	3.3V	√
	5V	√
SRAM BItcell(um2)		4.65

 0.18um Process Family

		0.18G
Special Process	Mix	√
	RF	√
	OTP/MTP	√
Design	Technical File	√
	PDK	√
	IP/Library	√

 

 

 0.18μm CMOS EN (3.3V or 5V) 

 

 Overview  
        公司提供的0.18μm CMOS EN (3.3V or 5V)工艺占有极具竞争力的光刻次数和紧凑的设计规定，为DC-DC、LED屏驱动、音频功放、MCU蹬爪用提供了很好的解决规划。

 

 Key Features 
- Single poly, rich metal (Aluminum) options (support 2~6, thin/thick top metal options)
- Hi-Rsh poly resistor, MIM/MOS capacitor, OTP/FT E–fuse and other rich device options
- Full Design Kit support with PDK\CMD\library

 

 Application 
- DC-DC
- LED display
- Audio amplifier
- MCU

 

 0.18μm e-Flash

 

 Overview  
        公司提供的0.18μm e-Flash工艺兼容0.18um logic工艺，提供业界拥有竞争力的闪存IP，高靠得住性，低功耗和低成本，为智能卡、各类屏接触节造、MCU蹬爪用提供了很好的解决规划。

 

 Key Features 
- Double polys, support 4~6 top metal options
- Industrial competitive flash macro cell size, low voltage, low power operation
- Full Design Kit support with PDK\ std cell\IO Library

 

 Application 
- Smart card
- Touch-screen controller
- MCU